【阿斯麦与台积电推动高NA EUV光罩向12英寸升级,计划2031年建立试产线】9月8日,荷兰光刻机制造商阿斯麦(ASML)与台积电宣布成立行业合作计划,推动高
【阿斯麦与台积电推动高NA EUV光罩向12英寸升级,计划2031年建立试产线】9月8日,荷兰光刻机制造商阿斯麦(ASML)与台积电宣布成立行业合作计划,推动高数值孔径(High NA)极紫外光刻(EUV)光罩从目前的6英寸向12英寸升级,以提高晶圆厂生产效率、降低芯片制造成本并消除拼接限制。双方计划于2031年建立12英寸光罩试产线,并推动12英寸高NA EUV光刻系统于2033年进入先进制程量
新浪财经
行业分析
2026-09-08 14:25:10